KRI 線性霍爾離子源 eH Linear
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 KRI 線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應(yīng)用于寬范圍的襯底, 離子源長(zhǎng)度高達(dá) 1 米, 通過(guò)嚴(yán)格調(diào)整模組間的距離可以實(shí)現(xiàn)更佳的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡(jiǎn)化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標(biāo)準(zhǔn)的端部霍爾模組并使設(shè)備的需求簡(jiǎn)化, 一個(gè)低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉(zhuǎn)濺射系統(tǒng).
霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體
KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術(shù)參數(shù)
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型號(hào)
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eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5
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供電
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DC magnetic confinement
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- 電壓
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40-200V VDC
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- 陽(yáng)極結(jié)構(gòu)
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模塊化
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電源控制
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eHL-30010A
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配置
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-
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- 陰極中和器
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Filamentless
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- 離子束發(fā)散角度
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> 45° (hwhm)
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- 陽(yáng)極
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標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved
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- 底座
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移動(dòng)或快接法蘭
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- 高度
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10 cm
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寬度
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10 cm
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- 長(zhǎng)度
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~ 100cm
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-工藝氣體
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Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others
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Model
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eHL 200-3
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eHL 200-5
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Height (nominal)
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2.9” (7.4cm)
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2.9” (7.4cm)
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Width (nominal)
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3.3” (8.4cm)
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3.3” (8.4cm)
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Length (nominal)
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Determined by number of modules & application
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Determined by number of modules & application
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Cathode/Neutralizer
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Yes
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Yes
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Anode module
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Yes
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Yes
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Filamentless
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Yes
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Yes
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Orientation
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Vertical / Horizontal
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Vertical / Horizontal
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Process gases
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Inert, reactive, & organic
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Inert, reactive, & organic
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Power controller
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eH Plasma Power Pack
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eH Plasma Power Pack
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1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD **域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源中國(guó)總代理.
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